隨著半導(dǎo)體集成電路、生物醫(yī)療高端器械、航空航天尖端裝備等高端產(chǎn)業(yè)的快速迭代升級(jí)，關(guān)鍵精密部件對(duì)表面粗糙度與面型精度的要求已攀升至亞納米乃至原子級(jí)。作為決定精密部件可靠性和精度的核心后道工藝，精密研磨拋光技術(shù)正經(jīng)歷從材料研發(fā)到工藝創(chuàng)新的全面革新。

例如，納米金剛石拋光液憑借超細(xì)磨粒的納米特性，在高效切削與超精密拋光間實(shí)現(xiàn)平衡，已逐步應(yīng)用到高端光學(xué)元件、晶體和精密金屬的表面加工上；具有分級(jí)孔道結(jié)構(gòu)的功能性拋光墊通過優(yōu)化磨料分布與流體力學(xué)特性，可實(shí)現(xiàn)CMP制程中納米級(jí)材料去除的精準(zhǔn)調(diào)控；與此同時(shí)，在智能制造趨勢(shì)推動(dòng)下，自動(dòng)化和智能化拋光設(shè)備通過精確控制拋光進(jìn)程，減少了人工干預(yù)，兼顧了加工精度與效率.....

為提供一個(gè)幫助業(yè)內(nèi)同行了解研磨拋光領(lǐng)域新材料、新技術(shù)的平臺(tái)，同時(shí)推動(dòng)行業(yè)關(guān)鍵技術(shù)突破，粉體圈定于2025年7月24-25日在東莞喜來登大酒店舉辦2025年全國精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇（第三屆），屆時(shí)將聚集上下游單位研發(fā)負(fù)責(zé)人、科研院校技術(shù)專家以及相關(guān)產(chǎn)業(yè)的投資機(jī)構(gòu)，圍繞精密研磨拋光的磨料制備技術(shù)、工藝革新、拋裝備研發(fā)及產(chǎn)業(yè)應(yīng)用展開研討，助力中國精密制造邁向新高度。

【會(huì)議時(shí)間】

7月24-25日

【會(huì)議地點(diǎn)】

東莞喜來登大酒店

【指導(dǎo)單位】

中國電子材料行業(yè)協(xié)會(huì)粉體技術(shù)分會(huì)

【主辦單位】

粉體圈（珠海銘鼎科技有限公司）

【參會(huì)對(duì)象】

1、氧化鋁、二氧化硅、稀土、氧化鋯、超硬拋光材料等粉體生產(chǎn)企業(yè)技術(shù)負(fù)責(zé)人；

2、研磨拋光材料產(chǎn)業(yè)科研機(jī)構(gòu)及高校相關(guān)課題組；

3、拋光液、拋光墊、拋光膏等下游產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)、應(yīng)用企業(yè)負(fù)責(zé)人；

4、粉碎、分級(jí)、顆粒檢測(cè)設(shè)備企業(yè)負(fù)責(zé)人；

5、磨料磨具、研磨拋光設(shè)備企業(yè)負(fù)責(zé)人；

6、拋光產(chǎn)品的下游應(yīng)用單位。

【會(huì)議議題】

1、二氧化硅、氧化鈰、碳化硅、氧化鋁、金剛石、立方氮化硼等在拋光領(lǐng)域的應(yīng)用

2、CMP拋光液的制備與應(yīng)用

3、堆積磨料的制備及應(yīng)用

4、研磨拋光墊、鉆石碟等拋光工具的制備及應(yīng)用

5、不同應(yīng)用領(lǐng)域?qū)Τ苎心伖饽チ夏ゾ叩囊?/p>

6、國產(chǎn)CMP拋光設(shè)備的卡脖子難題

7、磁流變拋光、磨粒流拋光、離子束拋光等新型拋光技術(shù)的應(yīng)用及產(chǎn)業(yè)化進(jìn)展

8、研磨拋光工藝組合優(yōu)化技術(shù)

9、復(fù)雜型面工件的研磨拋光技術(shù)

10、精密研磨拋光材料的檢測(cè)及過程監(jiān)測(cè)技術(shù)

11、晶圓材料的切磨拋技術(shù)

12、半導(dǎo)體、光學(xué)元件、醫(yī)療器械、集成電路等領(lǐng)域高端精密零部件的精密拋光技術(shù)與市場(chǎng)

13、藍(lán)寶石、陶瓷材料的精密研磨拋光技術(shù)與市場(chǎng)

14、金屬的高效鏡面光整加工技術(shù)與市場(chǎng)

15、汽車漆面的拋光技術(shù)與市場(chǎng)

【為什么要參會(huì)？】

1、促進(jìn)行業(yè)技術(shù)交流，學(xué)習(xí)同行先進(jìn)經(jīng)驗(yàn)，積累新的人脈資源；

2、結(jié)識(shí)先進(jìn)設(shè)備供應(yīng)商，把握行業(yè)技術(shù)發(fā)展方向；

3、面對(duì)面交流，構(gòu)建良性產(chǎn)業(yè)鏈經(jīng)濟(jì)生態(tài)圈，尋找合作商機(jī)。

【會(huì)議日程】

7月24日 10:00-22:00 ?會(huì)議報(bào)到 ? ?

7月25日 08:30-17:30 ?技術(shù)交流

　　　　18:00-20:00 ?招待晚宴

【參會(huì)費(fèi)用】

會(huì)議注冊(cè)費(fèi)（含用餐、資料、會(huì)務(wù)等費(fèi)用）：2800元/人。7月12號(hào)之前，優(yōu)惠價(jià)2500元/人。住宿統(tǒng)一安排，費(fèi)用自理。

【贊助方案】

協(xié)辦單位：50000元（含4人注冊(cè)費(fèi)），會(huì)議幕墻LOGO形象展示；資料袋，會(huì)議胸牌宣傳，產(chǎn)品展示桌一個(gè)張，展示板一個(gè)，產(chǎn)品資料裝入會(huì)議袋，會(huì)議通訊錄彩色廣告。

贊助單位：20000元（含3人注冊(cè)費(fèi)），會(huì)議幕墻LOGO形象展示；產(chǎn)品展示桌一個(gè)，展示板一個(gè)，產(chǎn)品資料裝入會(huì)議袋，會(huì)議通訊錄彩色廣告。

支持單位：10000元每家（含2人注冊(cè)費(fèi)），產(chǎn)品展示桌一個(gè)，展示板一個(gè)。

晚宴冠名贊助，會(huì)議禮品贊助請(qǐng)與主辦方聯(lián)系