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研磨拋光是通過機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的方法，使工件表面的粗糙度降低，以獲得光亮、平整的表面，是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能的重要手段。隨著經(jīng)濟(jì)的穩(wěn)步增長和工業(yè)化的深入發(fā)展，研磨拋光行業(yè)的下游需求持續(xù)增加，尤其是在汽車、機(jī)械、電子、光學(xué)、醫(yī)療等領(lǐng)域，對研磨拋光的質(zhì)量和效率的要求將不斷提高，從而推動精密研磨拋光行業(yè)的發(fā)展，例如，對于單晶材料的加工，同時還要求平面度、厚度和晶向的定向精度等；對于電子材料的加工，除了要求高形狀精度外，還必須達(dá)到物理或結(jié)晶學(xué)的無損傷理想鏡面。同時，精密研磨拋光行業(yè)也將面臨更加激烈的市場競爭和更加嚴(yán)格的環(huán)保要求，這將促使行業(yè)進(jìn)行技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品升級，以提高研磨拋光的精度、效率和節(jié)能環(huán)保性能。

目前，新材料和新工藝不斷得到應(yīng)用，尤其在研磨材料和研磨工具領(lǐng)域，例如利用超硬材料、陶瓷材料、金剛石材料等制作的研磨材料和研磨工具，具有耐磨性、耐高溫性、耐腐蝕性等優(yōu)點(diǎn)，能夠適應(yīng)不同的研磨拋光條件和要求；利用激光、電子束、離子束等新型的研磨拋光工藝，具有精度高、效率高、污染低等優(yōu)點(diǎn)，能夠?qū)崿F(xiàn)對微米級甚至納米級的研磨拋光。CMP拋光、磨粒流拋光、磁流體拋光、等離子體輔助拋光等對于研磨拋光材料及加工技術(shù)的優(yōu)化升級均有待進(jìn)一步的探索。

2024年8月25-26日，粉體圈將在江蘇無錫舉辦“2024年全國精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇（第二屆）”，屆時將聚集上下游單位研發(fā)負(fù)責(zé)人、科研院校技術(shù)專家以及相關(guān)產(chǎn)業(yè)的投資機(jī)構(gòu)，共同探討精密研磨拋光領(lǐng)域的發(fā)展機(jī)遇與未來方向。

【會議時間】

2024年8月25-26日

【會議地點(diǎn)】

無錫中央車站假日酒店

【指導(dǎo)單位】

中國電子材料行業(yè)協(xié)會粉體技術(shù)分會

【主辦單位】

粉體圈（珠海銘鼎科技有限公司）

【贊助單位】

丹東百特儀器有限公司

深圳市叁星飛榮機(jī)械有限公司

上海儒佳機(jī)電科技有限公司

珠海真理光學(xué)儀器有限公司

北京精微高博科學(xué)技術(shù)有限公司

【支持單位】

河南厚德鉆石科技有限公司

臨汾富達(dá)新型材料有限公司

廣東匯京智能裝備有限公司

【參會對象】

1、氧化鋁、二氧化硅、稀土、氧化鋯、超硬拋光材料等粉體生產(chǎn)企業(yè)技術(shù)負(fù)責(zé)人；

2、研磨拋光材料產(chǎn)業(yè)科研機(jī)構(gòu)及高校相關(guān)課題組；

3、拋光液、拋光墊、拋光膏等下游產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)、應(yīng)用企業(yè)負(fù)責(zé)人；

4、粉碎、分級、顆粒檢測設(shè)備企業(yè)負(fù)責(zé)人；

5、磨料磨具、研磨拋光設(shè)備企業(yè)負(fù)責(zé)人；

6、拋光產(chǎn)品的下游應(yīng)用單位。

【擬邀嘉賓】?

張保國 教授、博士生導(dǎo)師

河北工業(yè)大學(xué)微電子技術(shù)與材料研究所

梅燕 博士、教授級實(shí)驗(yàn)師　　北京化工大學(xué)

路家斌 教授、博士生導(dǎo)師　　廣東工業(yè)大學(xué)

張澤芳 博士、總經(jīng)理　　上海映智研磨材料有限公司

王寧 博士、研究主管　　有研稀土新材料股份有限公司

徐明艷 拋光事業(yè)部部長、高工　　鄭州磨料磨具磨削研究所有限公司

高德耀 總經(jīng)理　　湖南麥克斯菲爾新材料有限公司

紀(jì)發(fā)明 研發(fā)總監(jiān)　　鎮(zhèn)江瑞斯普新材料科技有限公司

楊叢林 所長　　中鋁山東有限公司研究院新材料研究所（持續(xù)更新中）

【會議議題】

1、精密研磨拋光材料的產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢；

2、半導(dǎo)體、集成電路等電子行業(yè)對CMP拋光材料的需求；

3、高端精密零部件的研磨拋光技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀；

4、氧化鋁、二氧化硅、氧化鈰、碳化硅、金剛石等粉體材料在研磨拋光領(lǐng)域中的應(yīng)用；

5、玻璃、陶瓷、金屬等不同材質(zhì)表面的研磨拋光技術(shù)應(yīng)用；

6、超硬材料在研磨拋光領(lǐng)域中的應(yīng)用；

7、硅溶膠的制備及其在CMP拋光中的應(yīng)用；

8、晶圓粗拋到精拋不同工段對研磨拋光材料的需求；

9、超精密研磨拋光技術(shù)在光學(xué)元件、醫(yī)療器械、航空精密部件、微電子等領(lǐng)域的應(yīng)用；

10、研磨拋光墊、鉆石碟及其他研磨拋光工具的制備技術(shù)及應(yīng)用；

11、CMP拋光液的制備與應(yīng)用；

12、拋丸、噴砂、噴丸等機(jī)械表面處理工藝用材料及設(shè)備發(fā)展；

13、拋光產(chǎn)品在汽車表面處理領(lǐng)域中的應(yīng)用；

14、拋光產(chǎn)品在3C產(chǎn)品表面鏡面拋光中的應(yīng)用；

15、研磨拋光相關(guān)生產(chǎn)加工及檢測設(shè)備發(fā)展現(xiàn)狀；

關(guān)注粉體圈，更多“精密研磨拋光材料及加工技術(shù)”相關(guān)議題將持續(xù)更新....

【為什么要參會？】

1、促進(jìn)行業(yè)技術(shù)交流，學(xué)習(xí)同行先進(jìn)經(jīng)驗(yàn)，積累新的人脈資源；

2、結(jié)識先進(jìn)設(shè)備供應(yīng)商，把握行業(yè)技術(shù)發(fā)展方向；

3、面對面交流，構(gòu)建良性產(chǎn)業(yè)鏈經(jīng)濟(jì)生態(tài)圈，尋找合作商機(jī)。

【會議日程】

8月25日 10:00-22:00 ?會議報到 ? ?

8月26日 08:30-17:30 ?技術(shù)交流

　　　　18:00-20:00 ?招待晚宴

【參會費(fèi)用】

會議注冊費(fèi)（含用餐、資料、會務(wù)等費(fèi)用）：2800元/人。7月31號之前，優(yōu)惠價2500元/人。住宿統(tǒng)一安排，費(fèi)用自理。

【贊助方案】

協(xié)辦單位：50000元（含4人注冊費(fèi)），會議幕墻LOGO形象展示；資料袋，會議胸牌宣傳，產(chǎn)品展示桌一個張，展示板一個，產(chǎn)品資料裝入會議袋，會議通訊錄彩色廣告。

贊助單位：20000元（含3人注冊費(fèi)），會議幕墻LOGO形象展示；產(chǎn)品展示桌一個，展示板一個，產(chǎn)品資料裝入會議袋，會議通訊錄彩色廣告。

支持單位：10000元每家（含2人注冊費(fèi)），產(chǎn)品展示桌一個，展示板一個。